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    常見問題

    金屬氧化膜電阻的定義及參數(shù)

    發(fā)布時(shí)間:2017-07-13 丨 閱讀次數(shù):

            金屬氧化膜一般采用真空蒸發(fā)技術(shù)制作。真空蒸發(fā)技術(shù)也就是說在真空中加熱合金使合金蒸發(fā),在磁棒上覆蓋著一層導(dǎo)電的金屬氧化膜。金屬氧化膜的阻值不僅可以通過控制金屬氧化膜的厚度和材料來決定還可以通過刻槽的方式來改變電阻的大小。所以金屬氧化膜電阻可以做成性能較好的、阻值范圍大的電阻器。金屬氧化膜有耐溫、抗氧化、超負(fù)載穩(wěn)定好、熱穩(wěn)定好

    的特性。

    金屬氧化膜電阻


           金屬氧化膜電阻的常用規(guī)格范圍:
    阻值誤差為 ±2%、±5%。
    工作溫度在:-55℃ ~ +155℃間
    阻值范圍在:0RΩ-1MΩ間
    工作電壓在:200v~500v間
    功率在1/4W到5WS
    溫度系數(shù):±350ppm℃
    封裝尺寸:6.2mmX2.4mm~16mm.8X6mm、

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